Spectrométrie de fluorescence X

La spectrométrie de fluorescence X est une méthode d'analyse chimique utilisant une propriété physique de la matière, la fluorescence de rayons X.



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  • fluorescence est directement proportionnelle à la masse élémentaire de l'échantillon. La spectrométrie de fluorescence X est basée sur la mesure d'intensité... (source : losno.lisa.univ-paris-diderot)
Un chimiste manipule un goniomètre manuel pour l'analyse par spectrométrie de fluorescence X de monocristaux d'échantillons géologiques, US Geological Survey, 1958.

La spectrométrie de fluorescence X (SFX ou FX, ou en anglais XRF pour X-ray fluorescence) est une méthode d'analyse chimique utilisant une propriété physique de la matière, la fluorescence de rayons X.

Quand on bombarde de la matière avec des rayons X, la matière réémet de l'énergie sous la forme, entre autres, de rayons X ; c'est la fluorescence X, ou émission secondaire de rayons X.

Le spectre des rayons X émis par la matière est caractéristique de la composition de l'échantillon, en analysant ce spectre, on peut en déduire la composition élémentaire, c'est-à-dire les concentrations massiques en éléments.

L'analyse du spectre peut se faire de deux manières :

  1. par analyse dispersive en longueur d'onde (WD-XRF, wavelength dispersive X-ray fluorescence spectrometry)  ;
  2. par analyse dispersive en énergie (ED-XRF, energy dispersive X-ray fluorescence spectrometry).

Historique

Henry Moseley, mort à 27 ans en 1915, à la bataille des Dardanelles, 2 ans après avoir démontré que les rayons X émis par un échantillon obéissent à une relation, entre la longueur d'onde du rayon X et le numéro atomique de l'échantillon, ouvrant ainsi la voie à ce qui va devenir la spectrométrie par fluorescence X
Premier spectre de fluorescence X obtenu par W. H. Bragg et W. L. Bragg en 1913. Le rayonnement X était produit par une cible de platine (Pt) et diffracté dans un cristal de NaCl. On observe, de gauche à droite, les 3 raies γ, β et α du Platine, dans le premier et le second ordre de diffraction. Pour le 3ème ordre, seuls apparaissent les raies γ et α
Exemple plus moderne de spectre
Spectromètre de fluorescence X (Philips PW1606) à manutention automatique d'échantillons, dans le laboratoire de contrôle d'une cimenterie

Physique de la fluorescence X

Émission fluorescente

Représentation schématique de la fluorescence X.

Lorsque un matériau est soumis à un rayonnement de faible longueur d'onde et par conséquent de forte énergie, comme les rayons X, les rayons gamma ou bien un faisceau d'électrons ou d'ions suffisamment accélérés, les atomes constituant le matériau peuvent subir une ionisation, c'est-à-dire qu'un ou plusieurs électrons peuvent être éjectés des couches électroniques (on parle aussi d'orbitales atomiques) de chacun de ces atomes. On nomme rayonnement primaire la source énergétique qui produit l'ionisation ; pour que celle-ci ait lieu, il est indispensable que le rayonnement primaire soit assez énergétique pour arracher un électron de la couche interne de l'atome. Plus exactement, l'énergie des photons ou des particules primaires doit être plus grande que le potentiel d'ionisation. On nomme effet photoélectrique l'arrachement d'un électron sous l'effet d'un photon énergétique[12].

L'atome est alors dans un état excité mais la perte d'un électron a rendu la structure électronique de l'atome instable. La désexcitation se fait par une transition électronique : un électron d'un niveau plus élevé «descend» pour occuper la case quantique vide (place laissée vacante par le photoélectron, c'est-à-dire par l'électron éjecté par effet photoélectrique). Cette transition électronique provoque l'émission d'un photon X. Si ce photon sort de l'atome, il s'agit bien de fluorescence X. Si le photon est recapturé par le même atome et provoque l'éjection d'un électron périphérique, c'est une émission Auger.

L'énergie du photon X émis est égale à la différence d'énergie des deux orbitales concernées. Il est par conséquent caractéristique de l'atome où l'émission a été générée. On nomme spectre d'énergie la distribution des énergies de la totalité des photons émis. Le spectre d'énergie est par conséquent caractéristique de la composition de l'échantillon. Le terme de fluorescence est appliqué aux phénomènes dans lesquels l'absorption d'un rayonnement produit la réémission d'un rayonnement moins énergétique[12].

Transitions électroniques dans un atome de calcium. La retombée d'un électron d'une couche supérieure vers une couche inférieure implique que cette dernière a perdu préalablement un de ses électrons.

Certains auteurs[13] estiment que les photoélectrons et les électrons Auger peuvent aussi exciter les atomes, surtout les atomes légers comme le carbone ou l'azote ; les éléments légers subiraient alors une excitation par les rayons X et par les électrons libres de l'échantillon.

Article détaillé : Interaction rayonnement-matière.

Chaque élément chimique est caractérisé par des orbitales électroniques d'une certaine énergie. Comme on peut le voir sur la figure Transitions électroniques, il n'y a qu'un petit nombre de transitions envisageables. Les couches électroniques s'appelant K, L, M, N, la transition L→K est habituellement nommée Kα, la transition M→K est nommée Kβ, la transition M→L est nommée Lα et ainsi de suite (notation de Siegbahn). Chacune de ces transitions génère un photon fluorescent avec son énergie caractéristique et la longueur d'onde du photon est reliée à son énergie par la constante de Planck h[12]

 \lambda = h \cdot c/E

Le rayonnement fluorescent peut par conséquent être analysé de façon équivalente en énergie — on parle d'analyse dispersive en énergie — ou en longueur d'onde — on parle alors d'analyse dispersive en longueur d'onde. Le spectre du matériau analysé est l'intensité du rayonnement selon l'énergie, le plus souvent exprimée en électron-volts (eV) ou en longueur d'onde. C'est un outil puissant pour l'analyse chimique élémentaire, branche de la chimie analytique

Bruit de fond

Le bruit de fond du signal provient de toutes sortes de phénomènes dont certains sont inhérents à la fluorescence X et d'autres dépendent du type d'analyse par fluorescence X. Dans la pratique, il s'agit du fond continu qu'on peut voir sur les spectres présentés dans cet article. Le bruit de fond obère la limite de détection de l'analyse étant donné que les pics de trop faible intensité ne pourront pas être distingués de ce fond continu.

Le Bremsstrahlung se retrouve dans toute la famille d'analyse par fluorescence X. Ce bruit de fond est causé dans l'échantillon par les électrons éjectés par effet photoélectrique et par effet Compton. Un autre phénomène interne aux échantillons cristallisés ou partiellement cristallisé consiste en un phénomène de diffraction de rayons X qui va principalement perturber la mesure des raies d'éléments légers.

Quand la source primaire est un rayonnement X, et ce cas est désigné par «XRF», dans le reste de l'article, un bruit de fond supplémentaire provient du fait que le rayonnement primaire est susceptible d'interférer avec le rayonnement secondaire :

La diffusion Rayleigh est plus importante pour les échantillons «lourds» (c'est-à-dire comportant surtout des atomes de numéro atomique élevé), la diffusion Compton est plus importante pour des échantillons «légers» (c'est-à-dire comportant surtout des atomes de Z faible).

Quand la source primaire est un faisceau d'électrons, et ce cas est désigné par «EPMA» dans le reste de l'article, le Brehmstralung est dominé par une interaction électron-matière spécifique : Les électrons peuvent être soumis à un champ électrique décélérateur créé à l'échelle atomique entre le noyau chargé positivement et les couches électroniques. La perte d'énergie cinétique de l'électron résulte produit alors un photon dans une large gamme d'énergie. [14]

Effets de matrice

En fluorescence X, l'intensité d'une raie n'est pas proportionnelle à la concentration de l'élément : les autres atomes constituant l'échantillon modifient le signal, c'est ce qu'on nomme les «effets de matrice». Certains effets de matrices sont physiques, c'est-à-dire qu'ils ne mettent en jeu que la composition élémentaire de l'échantillon. Dans le cas de la XRF, ils mettent en jeu deux phénomènes : l'absorption et la fluorescence secondaire

Le niveau de signal dépend en effet de l'absorption des rayons X par l'échantillon avant qu'ils n'atteignent l'atome cible. On parle d'absorption primaire. L'absorption secondaire joue sur le rayonnement résultant de la fluorescence X entre l'atome cible et la surface de l'échantillon. La fluorescence secondaire, ou surexcitation, sert à désigner l'excitation d'un atome voisin par les rayons X secondaires. Les atomes de l'échantillon reçoivent par conséquent des rayons X venant du tube et des rayons X venant d'autres atomes.

Dans le cas de l'EPMA, les mêmes phénomènes se produisent, mais c'est l'interaction des électrons avec la matrice, plus exactement la perte d'énergie des électrons quand ils pénètrent dans l'échantillon, qui joue le rôle de l'absorption primaire. La profondeur de pénétration des électrons dans le matériau dépend principalement du numéro atomique Z des composants de l'échantillon et de l'énergie cinétiques des électrons incidents. On sert à désigner ainsi les effets de matrice par l'acronyme ZAF, où Z est le numéro atomique, A l'absorption et F la fluorescence[15].

L'absorption des rayons X par un matériau donné dépend à la fois de la longueur d'onde reconnue et des constituants du matériau. En gros, plus le numéro atomique de l'élément est élevé, plus grande sera l'absorption[16]. Pour fixer les ordres de grandeur, un photon de 183 eV, qui correspond à la raie Kα du Bore, a une profondeur de pénétration de 50 nm dans le silicium, tandis qu'un photon de 8 048 eV, qui correspond à la raie Kα du cuivre, a une profondeur de pénétration de 4 μm dans le silicium, de 3 μm dans le fer et 240 nm dans l'or[17]

Les effets de matrices physiques peuvent être quantifiés assez convenablement, car les différents phénomènes physiques sont bien établis et bien documentés. Il existent aussi des effets de matrices chimiques qui sont produits par l'émission de photons de basse énergie générés par des transitions sur des couches électroniques périphériques dont les niveau d'énergie dépendent des liaisons chimiques. Ces effets chimiques se traduisent par un certain élargissement des pics et par un léger déplacement de ceux-ci. On peut les considérer comme des effets parasites, mais un appareillage spécifiquement sensible pourra aussi renseigner sur la composition chimique de l'échantillon au vu des déplacements observés sur le spectre[18].

Article détaillé : Effet de matrice.

Mesure et sources d'erreur

Une mesure de fluorescence X permet d'afficher un spectre, c'est-à-dire le nombre de photons X secondaires (émis par l'échantillon) ayant une énergie E/longueur d'onde λ donnée. En réalité, on mesure un «nombre de coups», c'est-à-dire en nombre d'impulsion générées par le détecteur ; le rapport entre le nombre de photons pénétrant dans le détecteur et le nombre de coups généré dépend le rendement du détecteur et de l'augmentcation. On exprime généralement l'intensité I en nombre de coups par seconde (cps)  ; c'est le «taux de comptage». Le spectre est la courbe I (λ) ou I (E). L'analyse qualitative — connaître les éléments présents — consiste à détecter si un pic est présent. L'analyse quantitative — déterminer la concentration d'un ou plusieurs éléments — nécessite de connaître la hauteur ou la surface d'un pic du spectre.

On a typiquement quatre sources d'erreur :

Instrumentation

Source de rayonnement primaire

Une XRF comporte une source de rayons X qui peut être un générateur de rayons X, type tube de Coolidge, un faisceau issu produit par un synchrotron ou encore une source radioactive.

Dans le cas d'échantillons fragiles, il est fréquemment préférable d'utiliser un rayonnement indirect : le tube à rayons X bombarde une cible, et c'est le spectre fluorescent de cette cible qui bombarde l'échantillon. L'échantillon est excité par un rayonnement quasi monochromatique. Ceci nécessite un appareil adapté, et modifie le traitement des résultats dans la mesure où il faut prendre en compte l'influence de la cible. Cette méthode permet aussi de simplifier largement les calculs des effets de matrice, puisque on utilise un rayonnement quasi-monochromatique. On parle dans ce cas de «fluorescence X polarisée».

Une microsonde comporte un canon à électrons qui crée un faisceau focalisé. Ce faisceau peut être dévié et ainsi pointer vers un lieu spécifique de l'échantillon, ou encore effectuer un balayage ce qui donne une cartographie élémentaire.

De l'énergie caractéristique de la source du rayonnement primaire, longueur d'onde des rayons X pour la XRF ou tension d'accélération des électrons pour l'EPMA, va dépendre à la fois de la profondeur sur laquelle l'échantillon sera susceptible de donner une réponse et de la gamme du spectre sur laquelle cette réponse sera donnée. Le spectre mesuré sera limité aux énergies inférieures à l'énergie caractéristique de la source primaire.

Spectromètres WDS et EDS

Il existe deux manières de déterminer le spectre : l'analyse dispersive en longueur d'onde ou en énergie.

Comparaison entre des spectres obtenus par WDS et par EDS. La figure repréente une partie d'un spectre obtenu par EPMA sur un verre contenant surtout 35 % de Ba0 et 5 % de MnO2. La raie Ba Lα1 est à 4, 466 KeV et la raie Mn Kα est à 5, 899 KeV

L'analyse dispersive en longueur d'onde est fréquemment nommée WDS, selon son acronyme anglais Wavelength dispersive spectrometry. On sélectionne les photons X d'une seule longueur d'onde par diffraction de Bragg sur un monocristal, en aval duquel on dispose un détecteur de photons qui peut être un compteur proportionnel à gaz ou un scintillateur. C'est l'angle entre la trajectoire du rayonnement secondaire et la surface du cristal qui détermine la longueur d'onde réfléchie. Le détecteur doit être disposé sur la trajectoire symétrique de la trajectoire secondaire.

Du principe de base, la sélection d'une seule longueur d'onde, découle un avantage et un inconvénient. L'avantage est de ne présenter sur le détecteur que le pic d'intérêt, ce qui est particulièrement intéressant pour la mesure d'éléments trace dont le rayonnement X n'est alors pas parasité par le rayonnement caractéristique d'un élément de la matrice, qui peut être un million de fois plus intense que celui de l'élément trace.

La contrepartie est que pour mesurer tout un spectre, il est indispensable de faire fluctuer l'angle d'inclinaison du cristal tout en repositionnant le détecteur. Ceci implique par conséquent la mise en mouvement d'un dispositif mécanique de précision. De même, si on veut simplement mesurer plusieurs raies du spectres, il faudra régler séquentiellement le goniomètre — c'est le nom qu'on donne à ce dispositif mécanique — aux différentes positions d'intérêt. On peut aussi doter l'appareil de plusieurs spectromètres WDS, chacun d'eux étant réglé aux positions d'intérêt pour l'analyse reconnue[19] ; on parle d'appareil multicanal.

Séparation des longueurs d'onde par diffraction sur un cristal. Dans le cas représenté sur la figure d'un cristal plat, la longueur d'onde λ2 n'est choisie que pour une seule trajectoire émanant d'un point donné. Les angles d'incidences des autres trajectoires émanant du même point ne forment pas le même angle avec la surface du cristal, à moins que ce dernier ne soit courbe

Un spectromètre à diffraction de Bragg peut avoir une excellente résolution spectrale sous réserve que la géométrie de la diffraction soir respectée[20] et qu'une restriction concernant l'émitance soit apportée : la surface émissive ou l'angle d'ouverture des trajectoire doivent être petits. Pour la XRF, la source n'est jamais particulièrement petite, on utilise un cristal plan et un collimateur, aussi nommé «fentes de Soller», qui est constitué de fines lamelles de cuivre parallèles ; ainsi, on s'assure que l'ensemble des rayons secondaires qui frappent le cristal analyseur ont la même direction. Avec un cristal courbe (mesure à position fixe), on dispose une fente fine entre l'échantillon et le cristal analyseur, la fente, le cristal et le détecteur étant sur un cercle nommé «cercle de Rowland»[21]. Pour l'EPMA où la sonde électronique est naturellement petite, on utilisera un cristal courbe[22].

Il n'est pas envisageable de couvrir toute la gamme du spectre des rayons X, , c'est-à-dire moins de 500 eV pour les raies Kα des éléments les plus légers (Be, B, C, N) à plus de 60 keV pour la raie Kα1 des éléments plus lourds que le tungstène. Il est vrai qu'il n'est pas nécessairement indispensable d'accéder à ces énergies pour mesurer des concentrations de tungstène, pour prendre cet exemple, puisque sa raie Lα1 est à 8, 4 keV. Selon la relation de Bragg, la distance entre les plans atomiques du cristal doit être de l'ordre de grandeur de la longueur d'onde à détecter. Ainsi, pour les raies Kα des éléments lourds, on utilise des cristaux LiF (fluorure de lithium) dont la distance entre plans atomiques est de quelque 0, 2 nanomètre, tandis que pour les éléments légers, on utilisera une structure multicouches Mo/B4C qui n'est pas à proprement parler un cristal. [23]

Dans le cas de l'analyse dispersive en énergie, les photons X de l'ensemble des longueurs d'ondes du spectre fluorescent parviennent jusqu'au détecteur. Le détecteur doit convertir chaque photon en une impulsion de charge électrique proportionnelle à l'énergie du photon.

Principe du détecteur solide

Les détecteurs semi-conducteurs, plus exactement du type SDD Si (Li) (silicon drift detector) sont de bons candidats pour cette fonction, puisque la génération de paires électron-trou dans la zone déserte d'une Jonction P-i-N est proportionnelle à l'énergie du photon[24]. Plus exactement, le nombre de charges électriques élèmentaires générées est égal à hν/3, 8, rapport de l'énergie du photon à 3, 8 eV[25].

À l'endroit où le spectromètrie WDS met en jeu une mécanique et une technologie de formation du cristal particulièrement élaborée, la spectrométrie EDS va mettre en jeu une électronique de détection sphophistiquée pour discriminer les niveaux des impulsions de charge électronique. Le bruit thermique électronique est a priori un facteur limitant de la résolution spectrale, mais ce n'est pas la limitation physique principale de la technique. On arrive en effet à le diminuer à un assez faible niveau en refroidissant le détecteur). [26].

La résolution spectrale de l'EDS est par conséquent nettement moins bonne que celle de la spectrométrie WDS, comme le montre la figure où sont représentés deux spectres EDS et WDS du même échantillon. Il existe énormément d'applications qui ne requièrent pas une très haute résolution spectrale. La moins bonne résolution de l'EDS est compensée par la possibilité inhérente de mesurer tout le spectre simultanément.

Comparaison entre les spectromètres WDS et EDS[27]
Performance instrumentale
WDS EDS
Efficacité de collection géométrique 0, 2 à 0, 5 % 2 à 5 %
Rendement quantique typ. 30 % 100 % dans la gamme 2-16 keV
Résolution spectrale 5 eV 140 eV à 5, 9 keV
Gamme spectrale de mesure instantanée Résolution du spectromètre Toute la gamme
Taux de comptage typ. 50 000 cps 3 000 cps
Artefacts - rejet d'empilement (**)
réflexions parasites

(*) avec un compteur proportionnel
(**) Voir ci-dessous, les détecteurs

Malgré un taux de comptage plus faible, les spectromètres EDS permettent de faire des mesures de spectres total plus rapides que les spectromètres WDS étant donné que, dans le cas WDS, l'intensité de la source primaire est le plus souvent limitée pour que le compteur ne soit pas saturé sur les pics majeurs. C'est à dire, lors du balayage mécanique dont le pas est obligatoirement équivalent à la très bonne résolution en énergie, typiquement 10 eV, le dispositif de mesure ne compte quasiment rien[27].

Les détecteurs

Avec un spetromètre WDS, on utilise le plus souvent un compteur proportionnel à gaz et un scintillateur. Pour faire du tri en énergie (spectromètre EDS), on utilise le plus souvent un détecteur SDD. Mais on peut aussi utiliser un détecteur solide en combinaison avec un spectromètre WDS, et on peut aussi faire du tri en énergie avec un compteur proportionnel ou un scintillateur.

Lorsque des impulsions sont générées aléatoirement, avec une certaine probabilité d'occurrence, il peut arriver que deux impulsions soient assez rapprochées dans le temps pour être confondues

Quel que soit le type de compteur, un des problème à gérer est celui de deux impulsions trop rapprochées et qu'on ne peut pas distinguer l'une de l'autre. L'incidence d'un tel événement n'est pas le même dans le cas d'un spectromètre WDS ou dans le cas d'un spectromètre EDS. En effet, dans le cas d'un spectromètre WDS où l'ensemble des impulsions sont supposées avoir été générées par des photon X de la même énergie, la superposition ne se traduit que la la perte d'une impulsion, et ce cas est statistiquement prévisible : plus le taux de comptage est élevé, plus la probabilité qu'une impulsion soit particulièrement proche d'une autre impulsion (phénomène de saturation). On applique par conséquent une correction de «temps mort» d'autant plus élevée que le taux de comptage est important[28].

Dans le cas d'une détection qui trie les impulsions selon leur amplitude, la superposition de deux impulsions crée un artefact de mesure : la grosse impulsion sera interprétée comme provenant d'un photon X dont l'énergie est la somme des énergies de chacun des 2 photons X ayant généré les impulsions. Ce problème d'empilement est partiellement résolu en mettant en place une chaine de mesures rapide qui détecte l'évènement sans discriminer l'énergie. Il est alors envisageable de rejeter les impulsions produites par plusieurs évènements. Évidemment, cette réjection n'est pas envisageable quand les deux évènements sont trop rapprochés pour pouvoir être distingués par cette chaine de mesure rapide[28].

Un compteur proportionnel à gaz est constitué par une enceinte cylindrique qui joue le rôle d'une cathode contenant un gaz, le plus souvent mélange argon/méthane, un fil métallique coaxial, qui joue le rôle d'anode, porté à une tension positive comparé à l'anode, une fenêtre d'entrée transparente aux rayons X mais étanche. Le compteur peut être scellé, mais il aura une durée de vie limité car le gaz se contamine, ou bien il peut être conçu pour recevoir en permanence un flux gazeux, et sa durée de vie sera quasiment infinie. Quand un photon X d'énergie E0 pénètre dans le compteur, toute son énergie est absorbée pour ioniser un atome de gaz, initiant ainsi un processus qui aboutit à la formation d'un certain nombre n de paires ion-électrons[29] :

n = E0

où ε vaut approximativement 30 eV[29]. Le courant électrique généré par ces ionisations est détecté et augmenté, et forme l'impulsion. La hauteur de l'impulsion — l'intensité du courant — est proportionnelle à l'énergie du photon, mais avec une dispersion plus grande que celle obtenue avec les détecteurs EDS, mais plus petite que les différences d'énergie entre les photons de la raie mesurée et celle de photons parasites. La discrimination en énergie des compteurs proportionnels permet ainsi d'éliminer des impulsions parasites, provenant soit du fond continu pour les énergies plus basses, soit des réflections de Bragg d'odre supérieur à un pour les énergies plus hautes[28]. La discrimination en énergie n'est cependant pas suffisante pour avoir directement un spectre en énergie, d'où l'utilisation d'un cristal diffractant. Ce détecteur a un bon rendement pour les faibles énergies[28].

Les spectromètres EDS mettent en œuvre des détecteurs semi-conducteurs du type SDD Si (Li) (silicon drift detector) . Un système électronique discriminateur sert à compter les impulsions et de les trier par leurs amplitudes. La précision de détermination de l'amplitude des impulsions électriques et par conséquent de l'énergie des photons X est d'autant meilleure que la température du détecteur est basse. On doit par conséquent le refroidir par azote liquide ou par effet Peltier[30]. Le détecteur Si (Li), le plus commun des détecteurs semiconducteurs en XRF, est une diode P-i-N, polarisée en inverse par une tension de 1000 volts à peu près, dans laquelle le dopant P est du Bore et le dopant N du Lithium. La région P est localisé à la périphérie du système, laissant une région intrinsèque d'environ 3 mm directement exposée aux rayons X. Cette région intrinsèque génère un bruit de fond spécifiquement faible du fait que les «accepteurs» Bore y sont compensés par des «donneurs» Lithium[30]. Les détecteurs HPGe (High Purity Germanium) représentent une variante des détecteurs Si (Li), présentant une meilleurs résolutionspectrale pour les hates énergies, mais limité pour les basses énergies[31].

Le processus de détection d'une jonction P-i-N est particulièrement analogue à celui du compteur proportionnel : Un photon X est converti en charges électriques, mais dans le cas de la jonction, la création de paires électron-trou joue le rôle de l'ionisation dans un compteur proportionnel. ε vaut approximativement 3, 8 eV< La limitation fondamentale du détecteur Si(Li) est statistique: le nombre de charges électriques élémentaires n'est égal qu'en moyenne au rapport de l'énergie du photon à 3, 8 eV, mais la dispersion obéit à une statistique poissonienne corrigée par un cœfficient de Fano de 0, 1 qui implique que l'incertitude de mesure sera supérieure à 100 eV quand l'énergie du photon est de 6, 4 keV (raie de Fe Kα). [26].

L'électronique d'un dispositif de mesure de l'énergie inclut la conversion de l'impulsion de charges électriques en impulsion de tension autour d'un préamplificateur faible bruit, un convertisseur analogique-numérique et un dispositif de comptage multicanaux (MCA, comme Multichannel Analysis) gérant le spectre entier[32].

Un problème général des détecteurs est l'absorption de la couche de protection qui doit obligatoirement exister en amont de la partie active du détecteur. Pour les compteurs à gaz, il s'agit de la «fenêtre» qui sépare l'enceinte du détecteur qui contient le gaz sous une faible pression de l'extérieur de l'enceinte qui est à la pression atmosphérique dans le cas de la XRF et sous vide dans le cas de l'EPMA. Cette fenêtre est un film mince de béryllium ou d'un matériau organique comme la nitrocellulose ou le polypropylène. Avec ces matériau, on obtient une bonne transparence, mais ces films minces sont un élément fragile de l'instrumentation[33][34]. La zone active des détecteurs semi-conducteurs doit aussi être protégée, par exemple, par une couche mince d'or [35] qui, même quand elle est réduite à quelques nanomètres, reste opaque aux rayons X les plus mous. Dans la pratique, les détecteurs Si (Li) sont insensibles aux éléments légers, Be, B, C, N, dont la raie Kα correspond à une énergie inférieure à 500 eV»[36]. Les détecteurs HPGe sont quant à eux quasiment inutilisables pour des énergies inférieure à 3 keV[31].

Pour les photons X de grande énergie, le scintillateur est une alternative au compteur proportionnelse compose d'un cristal fluorescent, par exemple en iodure de sodium NaI. Quand un photon X frappe le cristal, cela provoque un spot de lumière visible qui est détecté et augmenté par un photomultiplicateur. L'intensité lumineuse est proportionnelle à l'énergie du photon X incident, mais, pour le compteur proportionnel à gaz, avec une grande dispersion. Ce détecteur est bien adapté aux énergies élevées[37].

A côté des détecteurs Si (Li) et HPGe, des détecteurs en silicium de plus petite taille, qu'on sert à désigner par «diode P-i-N», ce qui, à proprement parler, ne les distingue pas des deux autres peuvent être refroidis par simple effet Peltier et peuvent même être utilisés à température ambiante, se montrant spécifiquement bien adaptés à l'intégration dans des appareils portables[31].

Pratique de l'analyse XRF

Si la physique de base de la spectrométrie par fluorescence X est commune à l'ensemble des branche de la famille, les problèmes pratiques d'analyse sont spécifiques à chaque branche. Ainsi, la préparation d'échantillons provenant de matériaux liquides n'a pas de sens en microanalyse EPMA qui est par définition une analyse locale. Seule la pratique de l'analyse XRF est traitée dans cet article tandis que celle de l'EPMA est traitée dans microsonde de Castaing.

Préparation des échantillons

Selon la nature du matériau, l'échantillon mesuré peut être le matériau brut, sans préparation. C'est le cas d'un échantillon solide ayant une tenue mécanique suffisante et les bonnes dimensions, par exemple métal, verre ou polymère découpé aux bonnes dimensions.

Dans d'autres cas, l'échantillon doit faire l'objet d'une préparation[38] :

Dans le cas de la poudre, une fois le matériau broyé, il peut être mis dans une coupe dont le fond est un film polymère, l'analyse se faisant sous hélium pour éviter que la poudre ne vole sous l'effet du pompage[39]. Quand on dispose de peu de poudre, cette dernière peut aussi être pressée sur une pastille d'acide borique qui assure sa tenue mécanique[39]. Elle peut aussi être pressée sous la forme d'une pastille, avec ou sans liant. Les principaux liants utilisés sont la cire et la cellulose microcristalline. Certains utilisent des cachet d'aspirine non pelliculés acquiss en pharmacie; c'est en effet de la cellulose qui est le plus souvent utilisée pour lier les cachets, et l'acide acétylsalicylique sert de lubrifiant. Il faut cependant s'assurer que le cachet ne contienne pas de composé pouvant perturber la mesure, comme du dioxyde de titane, du stéarate de magnésium ou du talc (silicate de magnésium) [39].

Montage de fluorescence en optique dite «inversée» (c'est-à-dire surface analysée en bas)  : la surface analysée est ainsi toujours au niveau de référence de l'appareil (position du film polymère) quel que soit l'épaisseur de l'échantillon

Le matériau préalablement réduit en poudre peut aussi être dissout dans un verre : c'est la technique de la perle fondue, la plus complexe, mais qui donne les meilleurs résultats pour des solides hétérogènes[40].

Quant aux liquides, eau, huile, carburant… on les met dans une coupe dont le fond est un film polymère si la mesure se fait par en dessous. On parle d'optique «inversée». L'analyse se fait sous hélium pour éviter l'ébullition sous l'effet de la chaleur et du vide[41].

Dans le cas d'une optique inversée, le tube et l'analyseur se trouvent sous l'échantillon. Si le film rompt durant l'analyse du liquide, cela peut endommager ces parties ; il convient par conséquent d'adopter un film suffisamment résistant, il faut faire un compromis avec l'absorption des rayons X (puisque plus un film est épais et plus il est résistant) et la présence d'éléments perturbateurs dans le film (qui permettent au film de mieux résister à certains produits). Ce problème ne se pose pas dans le cas des optiques directes (mesure par le dessus), mais le problème est alors de mettre un volume défini de liquide pour que la surface soit au niveau de référence[41].

Le logiciel de traitement des résultats doit prendre en compte la préparation de l'échantillon, à la fois dans l'estimation des effets de matrice, mais également pour afficher les concentrations dans l'échantillon d'origine. L'étalonnage de l'instrument (voir ci-dessous) sera spécifique pour chaque type de préparation.


Élaboration de la recette d'analyse

Un opérateur qui veut analyser un échantillon par XRF doit en premier lieu exprimer son problème, par exemple, mesurer la concentration du chrome dans son échantillon, et ensuite déterminer quelles sont les raies qu'il peut mesurer pour résoudre son problème, et enfin quels sont les paramètres instrumentaux qui donneront les meilleurs résultats.

Choix des raies mesurées

Pour la majorité des éléments, l'opérateur a le choix entre plusieurs raies envisageables. Les raies mesurables sont généralement les raies

L'opérateur a a sa disposition des tables qui le renseignent (Voir, sur wikibooks b :Spectrométrie de fluorescence X#Raies caractéristiques des éléments dans le domaine des rayons X). Ces informations sont disponibles en ligne sur un certain nombre de sites [42]. Une raie est mesurable si l'énergie des rayons X du tube est suffisante pour provoquer une ionisation dont la désexcitation provoque l'émission voulue. A titre d'exemple, la raie Kα1 du tantale (Z = 73) a une énergie de 57, 6 keV, ce qui veut dire qu'il faut une tension d'accélération du tube supérieure à 57, 6 kV (57 600 V). Les tubes et leur électronique d'alimentation sont fréquemment limités à 60 kV.

Pour les appareils dispersifs en longueur d'onde, la longueur d'onde de la radiation doit donner un angle de diffraction dans la limite des butées du goniomètre de l'appareil. Quel que soit le goniomètre, la longueur d'onde doit être inférieure au double de la distance interréticulaire du cristal analyseur 2d. D'autre part, si la déviation est particulièrement faible, le faisceau s'étale sur le cristal analyseur et le détecteur reçoit une portion plus faible du signal. A titre d'exemple, pour un cristal LiF200, la longueur d'onde doit être supérieure à 0, 285 nm (2, 85 Å) soit une énergie minimale de 4, 4 keV, et si on considère que la déviation minimale exploitable est 10 °, cela correspond à une longueur d'onde de 0, 049 nm (0, 49 Å) soit une énergie maximale de 25, 3 keV.

Le rendement du détecteur doit être suffisant pour l'énergie concernée. Les plages typiques d'utilisation sont :

Dans la pratique, les différents types de détecteurs ne sont pas disponibles sur un même instrument. Les instruments EDS sont équipés exclusivement de détecteurs semiconducteurs. La contrainte d'un détecteur adapté à une analyse donnée peut conduire au choix de l'instrument, mais le détecteur présent sur l'appareil à disposition de l'opérateur conduit aussi ce dernier à sélectionner l'une des raies parmi plusieurs envisageables.

D'autres phénomènes, qui dépendent de la composition de l'échantillon, entrent en ligne de compte dans le choix de la raie :

Choix des conditions de mesure

Une fois la raie choisie se pose la question des conditions de mesure, et dans un premier temps du type d'appareil : appareil dispersif en longueur d'onde ou en énergie ? Ce choix se fait au moment de l'achat de l'appareil, on choisit l'appareil suivant les applications prévues, mais également du coût et de l'infrastructure requise (espace, alimentation en fluides).

Quelle excitation du tube ? la puissance du tube étant limitée (typiquement 1 à 4 kW pour un appareil dispersif en longueur d'onde), il faut par conséquent trouver un bon rapport tension/intensité. Une raie particulièrement énergétique nécessite une tension d'accélération forte pour exciter l'élément ; une raie peu énergétique a un mauvais rendement, il faut par conséquent faciliter l'intensité du courant d'excitation aux dépens de la tension (de fait, la tension peut être faible puisque l'énergie d'excitation l'est aussi). Il faut considérer présence éventuelle d'un filtre pour couper les raies caractéristiques du tube, et par conséquent diminuer l'effet Rayleigh et Compton qui peuvent perturber la raie mesurée (augmentation du bruit de fond)  ;

Pour les appareil dispersifs en énergie (EDS) se pose la question du choix des paramètres de traitement du signal, facilitant la résolution (pouvoir de séparation) ou l'intensité (limite de détection). Pour les appareils dispersifs en longueur d'onde se pose toujours la question du choix du cristal et du collimateur qui peut, selon la réponse qui est faite, faciliter la résolution spectrale ou au contraire la limite de détection. D'une façon générale, une bonne résolution ira dans le sens de la réduction de l'intensité du signal, et par conséquent de la dégradation de la limite de détection. Le paramétrage du détecteur, et surtout du discriminateur qui filtre les impulsions, doit faire face à la même contradiction : la résolution en énergie s'oppose à la limite de détection. S'il est envisageable de choisir le détecteur en analyse WDS, le compteur proportionnel optimisera la mesure des faibles énergies, tandis que le scintillateur optimisera les fortes énergies.

La maturité de la technique qui a dégagé un certain nombre d'applications de routine. D'autre part, du fait des progrès du matériel et du logiciel informatique, une part de plus en plus croissante de l'expertise a été transférée de l'opérateur vers le logiciel embarqué avec les appareils de mesure. Le développement d'appareils bon marché a aussi contribuer à faciliter l'usage des instruments par un personnel peu qualifié. Quoique certaines applications restent toujours du domaine de l'expert, les fabricants d'appareils fournissent des bibliothèques de raies et de conditions de mesure toutes faites pour les principales applications, l'utilisateur «n'ayant plus qu'à» choisir parmi les conditions préétablies. Une partie de l'expertise enfouie dans l'instrument réside dans la façon dont l'appareil est étalonné en usine.

Étalonnage

En introduction à sa contribution sur les méthodes de standadisation utilisées en XRF, Mauser applique à la XRF l'adage de métrologie fréquemment cité pour toutes sortes de techniques de mesures. «X-Ray fluorescence is the best method to get wrong results in a perfectly reproducible way»[43]. En réalité, comparé à d'autres techniques, la XRF repose sur un corpus théorique suffisamment opérationnel pour que des instruments simplement réglés en usine donnent des résultats «pas si faux que ça».

Étalonnage d'usine (méthodes dites «semi-quantitatives» ou «sans étalon»)

Grâce aux méthodes de correction de matrice par les paramètres fondamentaux, il est envisageable de faire un étalonnage «universel» de la machine en usine. Le terme «universel» veut dire qu'il est indépendant du type d'échantillon à condition que les hypothèses physiques faite lors du développement de l'étalonnage soient respectées[43]. Dans le cas général, ces hypothèses sont :

En général, l'étalonnage est fait par le constructeur sur un appareil de référence. C'est un étalonnage qui comporte peu de points par élément, peut-être même un seul point : il s'agit de déterminer la sensibilité du dispositif pour une raie donnée. L'étalon est fréquemment fait de l'élément pur ou de son oxyde pur.

L'étalonnage doit ensuite être transposé sur l'appareil final, pour prendre en compte les différences avec l'appareil de référence. Pour cela, on dispose d'un jeu d'échantillons stables (en général des verres) qui sont mesurés sur l'appareil de référence et sur l'appareil final ; le rapport des intensités mesurées sur les deux appareils est appliqué aux cœfficients d'étalonnage.

On sert à désigner fréquemment ces méthode de :

Les deux appellations sont erronées : si l'échantillon répond aux hypothèses, le résultat est particulièrement précis, et par conséquent pas semi-précis, et les méthodes ont bien été faite à partir d'étalons mesurés en usine.

Étalonnage spécifique

Pour de nombreuses applications, l'étalonnage d'usine est insuffisant ou inapproprié : c'est la cas quand les hypothèses sous-jacentes ne sont pas valables, par exemple l'échantillon n'est pas homogène mais il est sous forme de poudre, d'une solide cristallisé ou d'un dépôt sur filtre. On peut aussi demander à l'analyse une grande précision, et la simple transposition d'un étalonnage d'une machine sur l'autre ne permet pas d'atteindre cette précision. On veut travailler avec des conditions de mesure différentes de celles utilisées pour l'étalonnage en usine, et ces différences ne sont pas aisément transposables, par exemple quand la haute tension du tube est différente. Dans ces cas-là, il faut faire un étalonnage spécifique[43].

Cet étalonnage spécifique requiert de définir explicitement des méthodes de standardisation qui recouvrent autant les préparations d'échantillon que le choix d'échantillon de référence et le protocole de mesure et de traitement des résultats de mesure qui aboutissent à la production des résultats finaux. Le protocole de mesure et de traitement des données comprend surtout, pour la XRF, la détermination et la soustraction du fond continu, la mesure et la correction des dérives instrumentales, la déconvolution effets de recouvrement de pics, la prise en compte d'échantillons de référence contenant l'élément à mesurer ou au contraire ne le contenant pas et la correction des effets de matrice[43].

La plus grande difficulté d'un étalonnage est de définir les étalons, qu'on nomme quelquefois «étalons externes» par opposition à la méthode de l'étalon interne quelquefois utilisée pour corriger des effets de matrice ; on peut pour cela utiliser des étalons certifiés apportés d'un organisme référent, faire soi-même ses étalons, ou bien à défaut utiliser des produits inconnus qu'on caractérise par d'autres méthodes, par exemple l'ICP. Les organismes de standardisation organisent aussi des Round-robins qui consistent à comparer les mesures effectuées par plusieurs laboratoires spécialisés sur le même échantillon. Mauser not que énormément de méthodes de standardisation pratiquée par des laboratoires spécialisées permettent d'obtenir les mêmes résultats pourvu que le même protocole soit suivi, mais ne mentionnent ni le biais de mesure ni les résultats détaillés obtenus au cours des round-robin[43].

Facteurs de mérite

On attend le plus souvent d'un appareil mettant en œuvre la spectrométrie de fluorescence X qu'il mesure des concentrations. Les facteurs de mérite de l'appareil sont par conséquent ceux qui participent à la qualité métrologique des appareils de mesure : résolution latérale, résolution en profondeur, sensibilité et limite de détection[44].

La résolution latérale et la résolution en profondeur dépendent principalement de la source primaire, mais également du processus d'interaction rayonnement primaire matière. La sensibilité sera d'autant meilleure que la source est énergétique et qu'il n'y a pas de perte dans le spectromètre. L'implantation des spectromètres comparé à l'échantillon détermine l'angle solide du rayonnement fluorescent qui sera effectivement capté par la détection. La limite de détection dépend en partie du niveau de bruit de fond du spectre et des techniques de post-traitement dont on dispose pour soustraire ce fond. Il importe aussi, pour que la mesure soit juste, qu'il n'y ait pas d'erreur sur l'identification du pic mesuré et cette dernière dépend en partie de la résolution spectrale, c'est-à-dire du pouvoir de séparation des pics. La résolution spectrale dépend en particulier de la nature et de la qualité des spectromètres. Le problème de l'identification des pics est aussi compliqué par les effets de matrice.

Estimation des éléments légers

Les éléments légers (numéro atomique Z faible) sont particulièrement difficilement mesurables en fluorescence X :

Sous vide avec un appareil dispersif en longueur d'onde, on peut mesurer jusqu'au bore (Z = 5), mais il faut un cristal analyseur spécial pour le bore, un pour le carbone et un pour l'azote. Si on utilise un gaz (en général l'hélium) pour maintenir une pression sur l'échantillon, on ne peut mesurer que jusqu'au sodium (Z = 11). Généralement, même sous vide, on estime que pour les éléments plus légers que le sodium, la mesure est particulièrement complexe.

Cependant, ces éléments ont une influence importante sur les effets de matrice. Donc, même si on ne s'y intéresse pas, il faut pouvoir les estimer. Cela peut se faire :

Cette dernière technique est énormément utilisée pour les oxydes : par exemple on mesure la quantité d'aluminium, et on calcule la quantité d'oxygène lié à partir de la formule de l'alumine.

Expression des résultats

Spectre typique de fluorescence X par dispersion d'énergie

La spectrométrie de fluorescence X est une méthode d'analyse élémentaire, par conséquent sert à déterminer les concentrations en éléments purs. Cependant, les éléments sont fréquemment présents sous la forme de composés (molécules, cristaux polyatomiques) dans le matériau d'origine. Il peut par conséquent être souhaitable de présenter des pourcentage de composés plutôt que d'éléments. On exprime par exemple fréquemment des concentrations en oxyde, surtout en géochimie ou pour les ciments.

La concentration en composés est calculée, généralement par le logiciel d'analyse, à partir des concentrations en éléments et des formules chimiques. Si l'élément n'est pas présent sous la forme indiquée, alors l'expression en composé est fausse, quoique l'analyse soit juste.

A titre d'exemple, le fer peut être présente sous la forme de fer pur Fe, ou d'oxyde de fer : wustite FeO, hématite Fe2O3, magnétite Fe3O4, mais également sulfure : pyrrhotite FeS, marcassite FeS2, ou encore sulfate : sulfate ferreux FeSO4, sulfate ferrique Fe2 (SO4) 3, … La spectrométrie de fluorescence X ne permet pas de déterminer la forme sous laquelle le fer est lié, et les éléments liés sont généralement légers par conséquent non mesurables, l'expression sous la forme d'un composé unique peut par conséquent être fausse.

Ceci peut donner une somme des concentrations inférieure ou supérieure à 100 %.

Différentes formes de l'analyse par fluorescence X

Appareils XRF portables

Il existe de petits appareils portables alimentés sur batteries dans le domaine. Ils ont généralement la forme d'une perceuse ou d'un pistolet et utilisent des sources de rayons gamma pour exciter la raie L ou des sources de rayons X pour exciter la raie K. Ces appareils ont une précision limitées et sont de fait plus utilisés pour obtenir des résultats qualitatifs et non destructifs.

En France, ces appareils sont utilisés dans le diagnostic bâtiment pour détecter la présence de plomb dans les peintures ou les canalisations des logements suite au danger de saturnisme lié à ce matériau.

On peut aussi l'utiliser pour déterminer la nature d'un métal dans des applications de collecte sélective ou pour des analyses environnementales ainsi qu'en archéologie pour la détection des métaux lourds.

Analyse XRF sur filtre

Le cas envisagé ci-dessus était celui d'un échantillon massif (liquide, solide ou pulvérulent). On peut aussi analyser des dépôts sur filtre.

Les effets de matrice sont des effets de masse ; dans le cas d'une couche particulièrement mince et peu dense, il n'y a pas d'absorption (tous les atomes sont en «première ligne») et la fluorescence secondaire (surexcitation) est négligeable. On travaille par conséquent sans correction de matrice ; l'intensité est directement proportionnelle à la concentration surfacique (en mg/cm² ou µg/cm²).

Le filtre peut être un papier buvard sur lequel on dépose une solution. Généralement, le filtre comporte un cercle d'apparence brillant qui empêche la solution de diffuser sur tout le papier mais la circonscrit dans un disque, ce qui permet la reproductibilité des mesures : si on met toujours la même quantité de solution, on est sûr d'avoir toujours la même concentration surfacique. On peut par conséquent exprimer les résultats directement en concentration volumique de la solution (mg/L ou µg/L).

La solution peut elle-même être une préparation issue d'un filtre ; par exemple, on filtre de l'air ou des fumées avec une mousse, cette mousse est calcinée (brûlée), et le calcinat est mis en solution et déposé sur le filtre.

Le filtre peut aussi être directement un filtre à poussière, mais il se pose alors le problème de la tenue mécanique des particules de poussière.

Les analyses sur filtre revêtent une grande importance pour la surveillance des conditions de travail (prévention des maladies professionnelles, surtout surveillance des particules de silice) et la protection de l'environnement (surveillance des rejets de fumées, surtout en métaux lourds).

Spectrométrie en réflexion totale (TXRF)

Principe de la FX en réflexion totale

La spectrométrie de fluorescence X en réflexion totale, ou TRXRF (total reflection X-ray fluorescence spectrometry) , est une méthode permettant d'analyser des quantités de matière particulièrement petite. Elle consiste à diminuer le bruit de fond en déviant le faisceau incident vers un absorbeur, on ne voit ainsi plus l'effet Rayleigh ou Compton.

Microfluorescence (MicroXRF)

La microfluorescence consiste à utiliser un faisceau particulièrement fin pour pouvoir analyser une aire particulièrement petite. On peut ainsi réaliser une cartographie chimique de l'échantillon.

Techniques de Spectrométrie de fluorescence X à source primaire autre que les rayons X

Il est envisageable de provoquer un rayonnement caractéristique secondaire X en bombardant avec d'autres radiations :

Quand on bombarde la matière avec des rayons X, celle-ci émet d'autres rayonnements qui peuvent être utilisés pour l'analyse :

Techniques d'analyse voisines

XPS, Auger, XANES

La méthode dite XPS (X-ray photœlectron spectroscopy) ou ESCA (electron spectroscopy for chemical analysis) , utilise, comme la XRF, le rayonnement X comme source primaire, mais elle met en œuvre des électrons éjectés par effet photoélectrique.

La désexcitation provoque aussi l'éjection d'électrons Auger, mais la spectrométrie Auger (ÆS, Auger electron spectrometry) utilise un faisceau d'électrons comme rayonnement incident.

Enfin, les rayons X sont absorbés par effet photoélectrique, on peut par conséquent faire de la spectrométrie d'absorption des rayons X (XANES).

Comparaison de la XRF avec les techniques voisines

On tire le meilleur parti de la XRF dans l'analyse d'échantillons métalliques ou semi-conducteurs de plusieurs microns d'épaisseur, par exemple pour l'identification d'alliages, et dans ce cas, l'échantillon est introduit dans l'appareil sans préparation spéciale, ou dans l'identification d'échantillons inconnus, solides, liquides ou sous forme de poudre[45].

Quand on en vient à effectuer des comparaisons entre différentes techniques d'analyse, il devient complexe de considérer toute la famille de spectrométrie par fluorescence X dans son ensemble, si ce n'est pour constater que toutes ces techniques donneront des informations sur la composition chimique des échantillons, mais sont appropriées pour la détermination de rapports isotopiques qui est l'apanage de la spectromètrie en masse. La XRF dont il est question ici s'emploie au sens strict, excluant les variantes EPMA ou PIXE. De la comparaison avec les autres techniques, il resoort que les points forts de l'analyse XRF peuvent être présentés ainsi[45] :

A ces avantages en performances s'ajoute un faible encombrement et un coût de fonctionnement assez modique ne nécessitant que l'électricité, l'eau de refroidissement (possibilité de circuit fermé avec refroidisseur) et peut-être gaz argon-méthane (mélange pour détecteur à flux gazeux) et hélium (atmosphère protectrice).

Les inconvénients sont :

Il y a un certain nombre de techniques d'analyse qui permettent la détermination de la composante chimique des éléments. Ces techniques se distinguent les unes des autres par la gamme de concentration couverte, l'information sur la profondeur, la précision etc... Un petit nombre d'entre elles profondeur[46]. Parmi toutes ces techniques, la spectrométrie de fluorescence X est celle qui permet d'obtenir la meilleure réolution spatiale, mais sous sa forme EPMA uniquement, et dans ce cas, la résolution en masse peut être meilleure que 100 nanomètres[46]. Sous sa forme PIXE, la résolution spatiale peut être du même ordre de grandeur que le SIMS, c'est-à-dire de quelques dixièmes de µm. Quand la source primaire est le rayonnement X, la résolution spatiale ne descend jamais au-dessous de 10 μm. On peut quand même parler d'analyse locale, ce qui n'est pas le cas de la torche à plasma, utilisée en spectrométrie de masse (ICP-MS) ou en spectrométrie optique (ICP-ÆS). Pour la détection des élements trace, la XRF peut obtenir de bons résultats, bien meilleure que le ppm, quand le rayonnement primaire est celui d'un synchrotron. Ce n'est pas autant que la SIMS ou l'ICP-MS[46].

Mais comparé à une technique comme le SIMS, le grans avantage de la XRF est son aspect quantitatif, la rapidité de la mesure, puisque plusieurs dizaines d'éléments sont détectables en une seule mesure.

Le prix d'achat était de l'ordre 100 à 150 kEUR dans les années 2000 pour un appareil dispersif en longueur d'onde. Ceci est à comparer à d'autres méthodes d'analyse. Surtout, la torche à plasma, autre méthode multiélément, a une limite de détection bien inférieure (jusqu'au ppb sur une solution diluée avec une ICP-MS, tandis qu'on peut au mieux espérer atteindre le ppm occasionnellement en fluorescence X), mais a un coût de fonctionnement énormément plus élevé (consommation en «argon U[47]» de la torche à plasma, contrainte des réétalonnages réguliers).

Normes relatives à la fluorescence X

Les normes suivantes font appel à la fluorescence X :

ISO 9516
détermination par spectrométrie de fluorescence X dispersive en longueur d'onde, dans les minerais de fer ayant une grande perte au feu, des teneurs en fer, silicium, calcium, manganèse, aluminium, titane, magnésium, phosphore, soufre, potassium, étain, vanadium, chrome, cobalt, nickel, cuivre, zinc, arsenic, plomb et baryum ;
EN ISO 14596
détermination par spectrométrie de fluorescence X dispersive en longueur d'onde de la teneur en soufre dans les produits pétroliers (type essence, gazole, …), pour des teneurs entre 0, 001 %m et 2, 5 %m ;
la méthode proposée est une méthode de correction de matrice par étalon interne, le zirconium introduit sous la forme d'octoate de zirconium ; quoique la méthode de l'étalon interne soit obsolète depuis le développement des algorithmes de paramètres fondamentaux, et peu adaptée à la fluorescence X, elle est ici envisageable puisque on a un produit liquide et une raie du zirconium proche en énergie d'une raie du soufre sans qu'il y ait de superposition (la raie S-Kα est à 0, 5373 nm et la raie Zr-Lα1 est à 0, 6070 nm)  ; elle sert à ne mesurer que deux raies, quels que soient les autres éléments présents ;
les étalons sont des solutions de dibenzothiophène (DBT), de sulfure didibutylé (DBS) et de thionaphtène (TNA, ou benzothiophène), diluées dans une huile blanche
ASTM C-114
certification des analyses de ciments hydrauliques par spectrométrie de fluorescence X ;
le laboratoire doit préparer, deux jours différents, des perles fondues à partir de matériaux de référence (standard reference materials, SRM) du NIST, et calculer la moyenne et la différence des teneurs ;
la méthode est validée si
  • l'erreur systématique (accuracy) , c'est-à-dire la différence entre la moyenne et la valeur certifiée du matériau, est inférieure à une valeur donnée, par exemple 0, 03 %m pour le dioxyde de titane (TiO2), 0, 1 %m pour les oxydes de fer (Fe2O3) et de soufre (SO3), 0, 2 %m pour la silice (SiO2) et l'alumine (Al2O3), 0, 3 %m pour la chaux (CaO)  ;
  • la dispersion statistique (precision) , c'est-à-dire la différence entre les deux mesures, est inférieure à une valeur donnée, par exemple 0, 02 %m pour le dioxyde de titane, 0, 1 %m pour l'oxyde de soufre et 0, 2 %m pour l'alumine.

Notes

  1. Kurt F. J. Heinrich, «The physics of X-Ray» dans Electron beam X-Ray Microanalysis, Van Nostrand Reinhold Company, 1981, p. 59-60
  2. J. Despujols, Historique de l'analyse par fluorescence X, Journal de Physique IV, Colloque C4, supplément au Journal de Physique Iü, Volume 6, juillet 1996 pdf en ligne
  3. Quintin M., «Qui a découvert la fluorescence X ?», Journal de Physique IV, Colloque C4, supplément au Journal de Physique Iü, Volume 6, juillet 1996
  4. Histoire (UPENN)
  5. M. Siegbahn, The spectroscopy of X-Rays, Oxford University Press, London, 1925 
  6. Richard M. Rousseau et Jacques A. Boivin, «The fundamental algorithm : a natural extension of the Sherman equation, part I : Theory», dans The Rigaku Journal, vol.  15, no 1, 1998, p.  22 [ (en)  lire en ligne]
  7. John Donovan, Electron Probe Micro Analysis Course, University of Oregon, 2005  chapitre 1 [lire en ligne]
  8. Voir sur la wikipedia anglaise Silicon drift detector
  9. Heinrich, p. 121
  10. Roland Akselsson, Short CV for professor Roland Akselsson, Lund University, Sweden [lire en ligne]
  11. http ://www. niton. com/About-Niton-Analyzers/niton-analyzers-history-and-background. aspx
  12. Kurt F. J. Heinrich, The physics of X-Ray dans Electron beam X-Ray Microanalysis, Van Nostrand Reinhold Company, 1981, p. 61-66
  13. Rex Couture, «Intelligent Interpolation for background subtraction - a hybrid approach for trace-element analysis», dans Advances in X-Ray Analysis, vol.  44, 2001  ; R. A. Couture et R. F. Dymek, «A reexamination of absorption and enhancement effects in X-ray fluorescence trace element analysis», dans American Mineralogist, vol.  81, 1996, p.  639-650 
  14. J. Golstein et coll., Scanning electron Microscopy and X-Ray Microanalysis, Plenum press, 1992 (ISBN 0-306-44175-6) , p.  75 et 116-117 
  15. J. Golstein et coll. (op. cit. ) , p. 400 et 417
  16. Goldstein, section 9.2.3., p. 424-427
  17. Goldstein, tableau 14.3, chapitre 14, p. 744-750
  18. Heinrich (op. cit. ) , p. 69
  19. Heinrich, p. 99-100, 129
  20. Heinrich, p. 103-110
  21. Beckhoff, B., Kanngießer, B., Langhoff, N., Wedell, R., Wolff, H., Handbook of Practical X-Ray Fluorescence AnalysisSpringer, 2006, p. 5-6
  22. Goldtein, section 5.2, p. 273-280
  23. Note d'application de Cameca, SX 100 Crystals and their wavelength coverage, 2002 pdf en ligne
  24. Heinrich, p. 121-122
  25. C'est une valeur moyenne empirique pour le silicium qu'il ne faut pas chercher à relier au gap de 1, 12 eV. Voir par exemple Fabri et al. Energy for Electron-Hole Generation in Silicon by α Particle, Phys. Rev, 131-1, 1 jul 1963
  26. Goldstein, p. 310-313
  27. Goldstein, section 5.4, p. 331-337
  28. Goldstein, section 5.2.3, p. 283-289
  29. Jacky Ruste, Spectromètrede rayons X dans Microanalyse et Microscopie à balayage, Les éditions de la physique, 1978, p. 226-242
  30. Jacky Ruste, Spectromètrede rayons X dans Microanalyse et Microscopie à balayage, Les éditions de la physique, 1978, p. 242-258
  31. Beckhoff et al. Handbook, p. 221-222
  32. Goldstein, section 5.3.2, p. 296-304
  33. Heinrich, p. 119
  34. Goldstein, section 5.2.2, p. 283
  35. Goldstein, section 5.3.2, p. 296
  36. Beckhoff et al. Handbook, p. 228
  37. Zeev B. Alfassi, Instrumental multi-element chemical analysis, Springer, 1998, ISBN 0751404276, p. 309
  38. Beckhoff et al. Handbook, p. 411-426
  39. Beckhoff et al. Handbook, p. 421-424
  40. Beckhoff et al. Handbook, p. 424-425
  41. Beckhoff et al. Handbook, p. 411-415
  42. A titre d'exemple, Jeffrey B. Kortright and Albert C. Thompson, Photon energies, in electron volts, of principal K-, L-, and M-shell emission lines table 1-2, en ligne dans X-Ray Data Booklet, Center for X-ray Optics and Advanced Light Source, Lawrence Berkeley National Laboratory le booklet, en ligne
  43. K-E Mauser, Standardized Methods dans Beckhoff et al. Handbook, p. 400-407
  44. pour la XRF, ou peut se reporter à R. Jenkins et J. V. Gilfrich, «Figures-of-Merit, Their Philosophy, Design and Use», dans X-Ray Spectrometry, vol.  21 (6), 1992, p.  263-269 
  45. Selon le site d''Evans Analytical Group, laboratoire de service proposant des analyses de toutes sortes site EAG
  46. B. Kanngisser et M. Haschke, section 7.1.2 dans Beckhoff, et al. Handbook, p. 434-436
  47. argon d'ultra-haute pureté

Voir aussi

Bibliographie

Liens externes

Quelques fabricants

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